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GEW lance la plateforme d'alimentation et de commande EOS lors du salon Loupe

GEW, le fabricant britannique de systèmes de durcissement UV, a lancé lors du salon Loupe Americas à Chicago sa nouvelle plateforme d'alimentation et de commande EOS. Successeur de l'infrastructure RHINO Power, EOS vise à rendre les systèmes UV plus efficaces, plus flexibles et plus faciles à intégrer.

Kurt De Cat - 17 septembre 2026

GEW
Cette nouvelle technologie a fait ses débuts lors du salon Loupe Americas à Chicago

Avec EOS, GEW a entièrement repensé les alimentations, l’électronique de commande, le câblage et les logiciels destinés au pilotage de ses systèmes UV. L’accent a notamment été mis sur l’efficacité et la modularité. En conservant la production en interne, GEW souhaite en outre garder un meilleur contrôle sur la qualité et l’expertise acquise.

Surveillance à distance

Les têtes de lampe intelligentes, dotées d'un numéro de série individuel, constituent une innovation majeure. Elles permettent une télémétrie plus poussée et offrent aux constructeurs de machines davantage de possibilités d'intégration OEM. Parallèlement, EOS prend en charge les protocoles de communication modernes et la facilité d'entretien a également été améliorée.

De nouvelles fonctions de rapport, notamment des compteurs d’heures de fonctionnement et d’utilisation du réflecteur, font désormais partie de l’équipement standard. Les possibilités de surveillance à distance ont également été étendues. Pour sécuriser la communication des données, GEW prévoit un chiffrement de bout en bout.

EOS reste compatible avec la technologie ArcLED brevetée de GEW, dans laquelle les lampes à arc UV et les modules LED sont interchangeables.

Connectivité étendue

« EOS va transformer en profondeur les fonctionnalités, les possibilités et l’intégration de nos systèmes de durcissement UV », déclare Robert Rae, directeur général de GEW. « La plateforme offre à l’opérateur une expérience utilisateur plus fluide et plus ergonomique. De plus, grâce à sa connectivité étendue, de nombreuses options de commande et d’E/S peuvent être intégrées. Cela permet d’obtenir davantage de données télémétriques et d’informations pour une analyse plus approfondie. »

Outre EOS, GEW a également présenté lors du salon Loupe Americas son système DoseGuard pour un contrôle précis des processus, ainsi que le nouveau refroidisseur à jet d’air (Air Blast Cooler).

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